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日立 超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000
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日立 超高分辨肖特基场发射扫描电子显微镜SU8700
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日立 超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列
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日立 超高分辨场发射扫描电子显微镜 SU8600系列
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日立 热场式场发射扫描电镜 SU5000
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日立 光-电联用显微镜法（CLEM）系统MirrorCLEM
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日立 超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
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日立 TM系列专用能谱仪（EDS）AZtec系列
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日立 钨灯丝扫描电子显微镜 FlexSEM 1000 II
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日立 钨灯丝扫描电子显微镜 SU3800 SU3900
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日立 TM系列专用能谱仪（EDS）Quantax75
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日立 球差校正扫描透射电子显微镜 HD-2700
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产品介绍：
优异的高效分析性能
微型采样方法(已在日本和美国取得)已在半导体器件分析领域成为一款工具，它正迅速向更小制样方向发展。仅用一小时左右即可获得一个微小样品，以便于STEM分析，其定位精度可达到0.1 μm以下。
产品特点：
聚焦离子束(FIB)微采样装置和聚焦离子束(FIB)微采样方法
聚焦离子束(FIB)微柱状制样实例
一个微柱状样品，包含一个直接从半导体器件上准确地切割下来的分析点。改变入射聚焦离子束(FIB)的方向，把微样品切割或加工成任意形状。
