名称

桌面型双靶直流磁控镀膜仪

CY-MSP210S-2DC

1.采用高真空不锈钢腔体，前开门式设计，门上配有石英观察窗，便于实验的观察记录。

2.配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。

3.顶盖上装有一套挡板，可通过转动挡板切换两支靶，实现多层镀膜。

4.需要配合高真空分子泵组一起使用，用户可以选择进口品牌小型分子泵以进一步节省安装面积。

5.可选配膜厚仪组件，可实时监测膜厚数据，为实验工艺提供可靠参数。

1.  供电电压 AC220V，50Hz

2.  整机功率 4KW

3.  载样台参数 
     尺寸 φ100mm；加热温度 *高500℃；控温精度 ±1℃；转速 1-20rpm可调

5.  磁控溅射头参数 
     数量 2个2”磁控溅射头；水冷

6.  真空腔体 
     尺寸φ210mm X 260mm H； 材料 不锈钢； 观察窗口 φ40mm；前开门式

7.  气体流量控制器 1路200sccm Ar；

8.  真空泵 分子泵组

     前级泵 旋片泵 抽速 1.1L/s
     次级泵 涡轮分子泵（国产） 抽速 600L/s
     抽气口 KF40 出气口 KF16

9.  膜厚仪 石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å

10. 溅射电源（2DC）
     直流电源 2台，输出功率≤300W，输出电压≤600V，响应时间＜5ms