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本设备为倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪,样品台与靶面的角度可调,可用于制作特定生长角度的薄膜。设备外形为桌面级别,大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源,可用于金属及其他导电材料的溅射。设备真空系统采用涡轮分子泵组,抽气速度快,极限真空度高,真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用,非常适合用于各类镀膜试验。
CY-MSP180G-AR(adjustable Angel rotate) 倾斜样品台式单靶磁控 样品台 尺寸 φ60mm 转速 转速0-20rpm可调 磁控溅射靶 数量 2” x1 真空腔体 腔体尺寸 φ180mm X 150mm 观察窗口 全向可视 腔体材料 高纯石英 开启方式 顶盖拆卸式 下法兰 含有样品台倾斜机构及旋转机构 真空系统 机械泵 双级旋片泵 抽气接口 KF16 分子泵 涡轮分子泵 抽气接口 KF40 真空测量 电阻规+电离规 排气接口 KF40 极限真空 1.0E-3Pa 供电电源 AC 220V 50/60Hz 抽气速率 前级泵 1.1L/s 分子泵:60L/S 电源配置 数量 直流电源 x1 *大输出功率 直流电源300W 其他 供电电压 AC220V,50Hz 整机尺寸 500mm X 320mm X6200mm 整机功率 2kW 倾斜样品台式单靶磁控技术参数: