日立离子研磨仪器 IM4000PLUS

日立离子研磨仪器 IM4000PLUS

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具体成交价以合同协议为准
2024-04-26 15:33:36
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柯岷国际贸易(上海)有限公司

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产品简介

IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式离子研磨仪器。借此,可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等,为评价目的样品的制作。

详细介绍

◆ 高通量的断面研磨

配备断面研磨能力达到500 µm/h*2以上的高效率离子枪。因此,即使是硬质材料,也可以高效地制备出断面样品。

*2在加速电压6 kV下,将Si从遮挡板边缘伸出100 µm并加工1小时时的超大深度


◆ 断面研磨

 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所构成的复合材料,也可以制备出平滑的断面样品

 优化加工条件,减轻损伤

 可装载大20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品

断面研磨的主要用途

 制备金属以及复合材料、高分子材料等各种样品的断面

 制备用于分析开裂和空洞等缺陷的断面

 制备评价、观察和分析所用的沉积层界面以及结晶状态的断面

              断面研磨加工原理图


◆ 平面研磨(Flat Milling®)

 均匀加工成直径约为5mm的范围

可运用于符合其目的的广泛领域

大可装载直径50 mm × 厚度25 mm的样品

可选择旋转和摆动(±60度~±90度的翻转)2种加工方法

平面研磨(Flat Milling®)的主要用途

去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变

去除样品的表层

消除FIB加工的损伤

     平面研磨(Flat Milling&reg)加工原理图


◆ 与日立SEM的样品结合

样品无需从样品台取下,就可直接在SEM上进行观察。

在抽出式的日立SEM上,可按照不同的样品分别设置截面、平面研磨杆,因此,在SEM上观察之后,可根据需要进行再加工。


*1将Si从遮挡板边缘伸出100 µm并加工1小时的深度

*2千分尺旋转1圈时的遮挡板移动量。断面研磨夹持器比为1/5

◆ 大气隔离样品杆

大气隔离样品杆,可让样品在不接触空气的状态下进行研磨。

密封盖将样品密闭,进入真空排气的样品室后,打开密封盖。如此,离子研磨加工后的样品可以在不接触空气的状态下直接设置到SEM*1、FIB*1、AFM*2上。

*1仅支持附带大气隔离样品更换室的日立FE-SEM和FIB。

*2仅支持真空型日立AFM。


锂离子电池负极(充电后)

     

                            大气暴露                                                                   大气隔离




◆ 用于加工时观察的立体显微镜

IM4000、IM4000PLUS通过设置在样品室上方的立体显微镜,可观察到研磨过程中的样品。

如果是三目型,则可以通过CCD摄像头*3进行监控观察。

*3CCD摄像头以及监控器由客户准备。

◆ 冷却温度调节功能*1


                                                                                                     附冷却温度调节功能的IM4000PLUS


该功能可有效防止加工过程中,由于离子束照射引发的样品的温度上升,所导致样品的溶解和变形。对于过度冷却后会产生开裂的样品,通过冷却温度调节功能可防止其因过度冷却而产生开裂。

*1此调节功能不是IM4000PLUS的标配功能,而是配有冷却温度调节功能的IM4000PLUS功能。


样品:铅焊料

     

                             常温研磨                                                                           冷却研磨

◆ 断面研磨

如果是大约500 µm的角型的陶瓷电容器,则可以3小时内制备出平滑的断面。

样品:陶瓷电容器

     

                             低倍图像                                                                     放大图像

即使硬度和成分不同的多层结构材料,也可以制备断面。


样品:保险杠涂膜

     

                             低倍图像                                                                   放大图像

这是通过锂电池正极材料,断面研磨获得平滑截面的应用实例。

在SEM上观察到的具有特殊对比度的部位,从SSRM(Scanning Spread Resistance Microscopy)图像来看,考虑为电阻低的部位。


样品:锂离子电池正极材料 样品制备方法:断面研磨

                                     锂离子电池正极材料:二次电子像/SSRM图像


◆ 平面研磨(Flat Milling)

可以去除机械研磨所引起的研磨损伤和塌边,并可观察到金属层、合金层和无铅焊料的Ag分布。


样品:无铅焊料

     

                              机械研磨后                                                             平面研磨后

因老化等变得脏污的观察面、分析面,通过平面研磨,也可以获得清晰的通道对比度图像和EBSD模式。


样品:铜垫片


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