单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机
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单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机

SUNDI-275单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机

参考价: 订货量:
156570 1

具体成交价以合同协议为准
2024-04-12 10:41:03
486
属性:
产地:国产;产品大小:小型;产品新旧:全新;控温方式:水冷式;自动化程度:其他;
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产品属性
产地
国产
产品大小
小型
产品新旧
全新
控温方式
水冷式
自动化程度
其他
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无锡冠亚恒温制冷技术有限公司

无锡冠亚恒温制冷技术有限公司

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产品简介

【无锡冠亚】单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

详细介绍


无锡冠亚制冷加热控温系统的典型应用:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、

双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、

微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、

蒸馏系统控温、

材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、

半导体设备冷却加热、

真空室制冷加热恒温控制。



型号SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
介质温度范围-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
控制系统前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器
温控模式选择物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
程序编辑可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤
通信协议MODBUS RTU 协议  RS 485接口
物料温度反馈PT100
温度反馈设备进口温度、设备出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度
导热介质温控精度±0.5℃
反应物料温控精度±1℃
加热功率2KW2KW3KW
制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
50℃1.5kW1.8kW3kW
0℃1.5kW1.8kW3kW
-5℃0.9kW1.2kW2kW
-20℃0.6kW1kW1.5kW
-35℃
0.3kW0.5kW
循环泵流量、压力max10L/min

0.8bar

max10L/min

0.8bar

max20L/min

2bar

压缩机海立/泰康/思科普
膨胀阀丹佛斯/艾默生热力膨胀阀
蒸发器丹佛斯/高力板式换热器
操作面板7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录
安全防护具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
密闭循环系统整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。
制冷剂R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G1/2G1/2
水冷型 W

温度 20度


450L/H

1.5bar~4bar

G3/8

550L/H

1.5bar~4bar

G3/8

外型尺寸 cm45*65*8745*65*8745*65*120
正压防爆尺寸
70*75*121.570*75*121.5
标配重量55kg55kg85kg
电源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
外壳材质SUS 304SUS 304SUS 304
选配
正压防爆  后缀加PEX
选配可选配以太网接口,配置电脑操作软件
选配选配外置触摸屏控制器,通信线距离10M
选配电源100V 50HZ单相,110V 60HZ 单相,230V 60HZ 单相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相







单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机

单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机


  随着信息技术的飞速发展,数据中心已成为现代社会中的基础设施。然而,随着数据中心的规模不断扩大,传统的风冷散热方式已难以满足大规模数据中心的散热需求,因此,液冷系统作为一种散热技术,逐渐受到业界的关注和应用。

  一、液冷系统的基本原理与优势

  液冷系统,即使用液体作为冷却介质来降低数据中心设备温度的系统。与传统的风冷散热相比,液冷系统具有更高的热传导效率。这是因为液体在传导热量时,其热阻远低于空气,因此能够更加有效地将设备产生的热量传导至散热器或外部环境。

  二、液冷系统的应用场景

  1、大规模数据中心:随着云计算、大数据等技术的广泛应用,数据中心的规模不断扩大,对散热效率的要求也越来越高。液冷系统能够满足大规模数据中心的散热需求,确保设备稳定运行。

  2、高性能计算领域:高性能计算(HPC)领域对设备的散热性能要求高。液冷系统能够提供稳定的散热环境,确保高性能计算设备的性能得到充分发挥。

  三、液冷系统的挑战与展望

  尽管液冷系统在数据中心领域具有广阔的应用前景,但仍面临一些挑战。例如,液冷系统的设计和维护成本较高,对运行环境的要求也较为严格。此外,液冷系统的安全性问题也需要得到重视。

未来,随着技术的不断进步和成本的降低,液冷系统有望在更多领域得到应用。同时,行业也需要加强液冷系统的研发和创新,提高系统的稳定性和安全性,推动液冷技术在数据中心领域的广泛应用。



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