等离子去胶机12L-深圳市甲岸科技有限公司手机版

详细介绍

甲岸科技等离子去胶机12L

甲岸科技等离子去胶机对电路板、外延片、芯片、环氧基光刻胶去除，提高材料清洁度、附着力、粘接力以及表面分子的活性，满足用户对产品表面处理需求。

产品应用

1、适用于所有的基材及复杂的几何构形进行等离子体去胶、活化、刻蚀、清洗、镀膜

2、提高材料清洁度、附着力、粘接力以及表面分子的活性

产品特点

型号	AP-RR8
等离子源系统	频率		13.56MHz 射频
	功率		0~300W可调
真空系统	真空腔体	材质	石英
		腔体内部尺寸	Φ250 * Dept.260（直径*深mm)
		腔体容积	12 L
		处理***尺寸	8英寸
	泵	真空泵	干泵
		真空管路	不锈钢管、不锈钢波纹管
	真空计		1×105~1×10-1Pa
	质量流量计		＜±1% FS
	气路控制		4路处理气体气路，气体流量可调
	极限真空		5Pa
	流量范围		0-500SCCM（可调）
	工艺气体		Ar、N₂、O₂、H₂等等（可选）
外观参数	外形尺寸(MM)		750450500(宽高深）
	重量		55KG
设施配置	电力	单相三线制AC220V ,50-60Hz。所有配线符合《低压配电设计规范 GB50054-95》、《低压配电装置及线路设计规范》等国标标准相关规定。