射频等离子设备-苏州爱特维电子科技有限公司手机版

产品简介

产品特点：1.采用自动控制界面和触摸屏人机界面，操作方便2.的型腔设计，清洗均匀性好，清洗质量高3.它采用两层结构，每层4-6个料盒，结合化学反应性和物理冲击，清洗周期短，效率高4.等离子清洗具有重复性高，可控性强、利用率高、无污染、运行成本低等特点5.该系统结构简单、占地面积小、效率高、操作、维护方便、速度快、运行稳定等优点

详细介绍

产品特点：

1.采用自动控制界面和触摸屏人机界面，操作方便

2.的型腔设计，清洗均匀性好，清洗质量高

3.它采用两层结构，每层4-6个料盒，结合化学反应性和物理冲击，清洗周期短，效率高

4.等离子清洗具有重复性高，可控性强、利用率高、无污染、运行成本低等特点

5.该系统结构简单、占地面积小、效率高、操作、维护方便、速度快、运行稳定等优点。

6.D/A前，会增加引线框架或基板的表面湿润能力，使其结合的更加精密牢固。

技术参数:

序号	型号	AS-V100
1	设备外形尺寸	长×深×高＝1200mm×800mm×1750mm
2	真空腔体尺寸	长×深×高＝450mm×450mm×610mm
3	电源频率	13.56MHz
4	电源功率	1Kw
5	电极板规格	非标定制
6	软件控制	PLC触摸屏
7	气体纯度要求	工业级气体或更好
8	可加载气体	O₂，N₂，Ar