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◆多AES 和化学处理研究的理想工具。
◆高火焰温度高,形状易控制,的等离子体密度,在与被处理材料产生有利的化学作用后,能快速沉积SiO2,金刚石膜等多种材料
◆微波功率输出稳定性高。
◆广泛用于SiO2、金刚石膜等材料的快速CVD合成;多种金属材料的表面改性处理;花岗岩片的表面精细加工;超微细粉的制备;材料的精细焊接和切割等。
◆适应于多种气体,性能*,安全、可靠性强、重现性好,操作简便。
◆多参数实时监测、采集与记录,计算机控制,多重联锁保护与报警。
(1) | 型号 | HMPT-209 |
(2) | 电源 | AC380±10% V 三相五线制 50Hz |
(3) | 微波输出功率 | 0.2~1.0kW 连续可调 |
(4) | 功率稳定度 | ≤±1%(@额定功率) |
(5) | 微波频率 | 2450MHz±50MHz |
(6) | 波导接口 | BJ22,BJ26 |
(7) | 工作气压 | 100 Torr 至大气压 |
(8) | 微波泄漏值 | <5mW/cm2 |
(9) | 工作环境 | 温度15~40℃,相对湿度≤60%,无腐蚀性气体 |