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日立 超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000
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日立 超高分辨场发射扫描电子显微镜SU8600系列
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日立 扫描电子显微镜 FlexSEM 1000 II
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日立 超高分辨肖特基场发射扫描电镜SU7000
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日立 扫描电子显微镜SU3800/SU3900
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日立 离子研磨仪 IM4000II
面议产品介绍：
ArBlade 5000是日立离子研磨仪的高性能机型。
它实现了超高速截面研磨。
高效率截面加工功能，使电镜截面观察时样品加工更简单。
产品特点：
截面研磨速率高达1 mm/h*1！
新研发的PLUSII离子枪发射出高电流密度离子束，大幅提高*2了研磨速率。
*1 Si突出遮挡板边缘100 µm，1个小时加工深度
*2 研磨速率是本公司产品(IM4000PLUS:2014生产)的2倍
截面研磨结果对比
(样品：自动铅笔芯、研磨时间：1.5小时)
截面研磨宽度可达8 mm！
使用广域截面研磨样品座，加工宽度可达8 mm，十分适用于电子元件等的研磨。
复合型研磨仪
全新的复合型(截面研磨、平面研磨)离子研磨仪。
可根据需求对样品进行前处理。
产品规格：
| 通用 | |
| 使用气体 | Ar(氩)气 |
| 加速电压 | 0～8 kV |
| 截面研磨 | |
| 研磨速率(材料Si) | 1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1 |
| 研磨宽度 | 8 mm*2 |
| 样品尺寸 | 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
| 样品移动范围 | X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
| 离子束间歇加工功能 | 标准配置 |
| 摆动角度 | ±15°、±30°、±40° |
| 平面研磨 | |
| 加工范围 | φ32 mm |
| 样品尺寸 | φ50 × 25(H) mm |
| 样品移动范围 | X 0～+5 mm |
| 离子束间歇加工功能 | 标准配置 |
| 旋转速度 | 1 r/m、25 r/m |
| 倾斜角度 | 0～90° |
*1 Si突出遮挡板边缘100 µm，1个小时加工深度
*2 使用广域截面研磨样品座时
选配
| 项目 | 内容 |
高耐磨遮挡板 | 耐磨遮挡板是标准遮挡板的2倍左右(不含钴) |
| 加工监测用显微镜 | 放大倍率 15×～100× 双目型、三目型(可加装CCD) |
