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半导体行业超纯水监测流程回放

直播时间：2025/8/19 10:17:26

上海博取仪器有限公司作者

半导体行业以硅等半导体材料为基础，涵盖集成电路、光电器件等领域，其中集成电路占比超 80%。该行业对超纯水需求严苛，水质直接影响生产质量与性能，超纯水监测成为关键环节。


当前半导体超纯水标准远超国标电子水最高要求，核心指标包括：电阻率需达 18.2 兆欧（25℃）以上，确保离子含量极低；TOC（总有机碳）控制在 0.5ppb 以下，避免影响光刻精度；大于 0.05 微米的颗粒物每升不超 100 个；溶解氧需低于 1ppb，防止金属离子氧化。


超纯水应用于晶圆冲洗、光刻工艺、刻蚀冷却、机械抛光等全生产流程，还用于设备冷却及实验室研发。监测方法上，微粒子用液体粒子计数器检测，TOC、电阻率、溶解氧等通过在线电化学仪器实时监测，结合集成系统实现水质动态管理。


监测周期依生产需求和水质变化而定，需定期采样分析。超纯水由自来水经 ACF、UF、RO、EDI 等多级处理，再通过 TOC-UV 灯装置将 TOC 降至 1ppb 以下。


随着半导体元器件尺寸缩小和精度提升，水质要求不断提高。行业正通过提升检测精度、应用远程监控等新技术，应对更严苛的挑战，以降低因水质问题导致的生产损耗，保障产品良率。


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