超纯水设备采用了“反渗透+EDI+抛光混床”相结合的技术，专用于进行超纯水生产。它的出水电阻率可达18MΩ*cm(25℃)，在半导体行业中应用价值很高。随着我国在全球半导体产业发展中的地位日益提高，超纯水的市场需求也明显增长。超纯水设备生产超纯水具有生产质量稳定、无酸碱再生、自动化强、污染小的优点，能耗也比较低，对促进半导体产业发展有积极作用。
反渗透膜是超纯水设备中的一项核心技术。这是一种能实现纳米级物质过滤分离的高新技术，可以用来分离去除超纯水中的有机物、金属离子、矿物质、微生物和细菌等杂质。它的膜通量大、水渗透效果好、水分子透过率高，并且具备良好的抗污染能力，不易堵塞。
EDI技术是实现超纯水深度脱盐的关键技术。通过EDI技术可以带电荷运行的优点，可以促使超纯水脱盐时的离子迁移速度加快，从而有效提高脱盐率。这个过程中不产生酸碱废液，能省去酸碱中和反应处理步骤，减轻了后续工艺的生产负担，也降低了环境污染。抛光混床技术是超纯水设备的末端工艺，有力保证超纯水出水水质稳定达标。
超纯水设备中采用了智能化程序，操作十分灵活，能节约人工成本。它运行无死水，运行环境好，性能稳定，无须更换树脂，具有很高的性价比。经过超纯水设备生产后产生的超纯水，成分中基本只含有氢原子和氧原子，不会对产品质量造成影响。
除了半导体行业之外，该设备还能为食品、医疗、化妆品、生物科技、军工、航天等领域提供超纯水生产服务，具有广阔的发展前景。
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