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应用特点：
晶体半导体、集成电路芯片、计算机硬盘、显示器、液晶显示制造过程中的纯水、超纯水；
工艺中清洗用纯水。可采用全自动预处理单元，PLC电控系统、低压停水保护。
该设备脱盐率高、膜使用寿命长、设备运行可靠、低能耗、低噪音。
系统设置产水超标自动排放报警，手动、自动冲洗，无水停机，高低压保护及液位控制等功能。
产水水质：
TOC＜10ppb 颗粒达到0.5μm≤200个/L
二氧化硅SiO2＜5ppb 电阻率≤18.25MΩ.cm（25℃）
工艺流程：预处理→双级反渗透主机→EDI→抛光混床
