用于半导体的 Helios G4 UC DualBeam

Thermo Scientific用于半导体的 Helios G4 UC DualBeam

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-08-11 09:23:25
155
产品属性
关闭
赛默飞世尔科技(中国)有限公司

赛默飞世尔科技(中国)有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

科学家和工程师不断面临新的挑战、需要对越来越复杂的样品的更小特征进行高度局部表征。Thermo Scientific HeliosG4 UC DualBeam 显微镜的较新技术创新,结合较易使用、较全面的软件和赛默飞世尔科技的应用专业知识,可为广泛的材料较快速、较容易地制备 HR-s/TEM 样品。

详细介绍

结合可选的 Auto Slice View 4 (ASV4) 软件,Helios G4 UC 可实现高质量、全自动采集多模态 3D 数据集。这些数据集包括用于较大材料对比度的 BSE 成像、用于组成信息的能量色散光谱学 (EDS) 和用于微观结构和晶体学信息的电子背散射衍射 (EBSD)。结合 Avizo 可视化软件,可提供的工作流程解决方案,以实现纳米级的较高分辨率、的 3D 表征和分析。


体验 Helios G4 UC 的优点

  • 使用 Tomahawk 离子镜筒可较快速、较容易地制备高质量、位点特异性 TEM 和 APT 样品
  • 使用同类较佳 Elstar 电子镜筒获得纳米级信息的时间较短
  • 凭借具有更高电流的下一代 UC+ 单色器技术,可以在低能量下实现亚纳米性能,从而显示较为细致的细节信息
  • 可通过多达 6 个集成在镜筒内和透镜下的集成检测器获得具有清晰、精确且无电荷的对比度的较完整样品信息
  • 使用可选的 Auto Slice View 4 (ASV4) 软件,可提供较高质量、多模态亚表面和 3D 信息,较精确地瞄准目标区域
  • 对复杂结构进行快速、准确、精确的铣削和沉积,临界尺寸小于 10 nm
  • 由于 150 mm Piezo 载物台和腔内 Nav-Cam 的高稳定性和准确性,可根据个体应用需求定制精确的样本导航
  • 基于集成样品清洁管理和专用成像模式(如 SmartScan和 DCFI 模式)的无伪影成像
特色文档

Helios G4 UC 数据表

Helios G4 UC 是行业的 Helios DualBeam 系列第四代产品的一部分。它经过精心设计,以满足科学家和工程师的需求,将创新的 Elstar 电子镜筒与高电流 UC + 技术结合,以实现较高分辨率成像和较高的材料对比度,与的 Tomahawk 离子镜筒结合,用于较快、较容易、较精确的高质量样品制备。

上一篇:原位样品杆|原子尺度解析原位氢气环境中铁的氧化还原相变路径 下一篇:Phenom MAPS:为何材料研究人员都在悄悄使用这款软件?
热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话: