UV光催化氧化设备 UV光氧化废气处理设备
关键词：光催化氧化设备，光氧化设备，废气处理设备，UV光解设备，
UV光催化氧化设备工作原理：
1、利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射来裂解排放的废气废气，能有效的处理：硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，等废气的分子链结构，使有机或无机高分子废气化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等，从而达到有效的治理，实现达标排放。
2、利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需要与氧分子结合，进而生产臭氧。臭氧对紫外线光束照射分解后的有机物具有的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有良好的削除效果。
3、恶臭气体通过废气收集排风设备进入到装有UV高效光解氧化模块的反应腔后，高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
4、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸(DNA)，再通过臭氧进行氧化反应，达到脱臭及杀灭细菌的目的。
UV光催化氧化设备优势：
1.除恶臭：净化污染物以及各种恶臭味；脱臭效率高达99%以上；
2.适应性强：可适应高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理；
3.运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护；
4.高质量材料制造:防火、防爆、防腐蚀性能高；
5.环保产品：经分解后的恶臭气体，可达到无害化排放，不产生二次污染；
UV光催化氧化设备的特点：
1、光催化氧化设备能高效去除挥发性有机物、硫化氢、氨气等无机物类污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达99%以上，脱臭效果大大优于颁布的恶臭污染物排放标准(GB14554-93)
2、光催化氧化设备可适应于绝大部分高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，通过合理的模块配置可广泛应用于：炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾中转站、污水泵房、空调等恶臭气体的脱臭灭菌净化处理。可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
3、光催化氧化设备无任何机械装置，无运动噪音，无需专人管理和日常维护，只需要作定期检查维护，维护和能耗成本低，风阻极低，可节约大量排风动力能耗，达到节能的目的。
4、光催化氧化设备采用光解原理，采取了隔爆处理，消除了安全隐患、防火、防爆、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，特别适用于高浓度易燃易爆废气的场合。
5、光催化氧化设备无需恶臭气体进行特殊的预处理，如加温、加湿等，设备工作环境温度在-30度~95度之间，湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作，无需添加其他物质及药剂参与处理。
6、光催化氧化设备可根据风量及气体浓度的大小，进行灵活配置，采用抽屉式插拔安装形式，配件统一，安装及维护方便。
UV光催化氧化设备功能：
1.除恶臭：
TiO2光解催化氧化设备能处理挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效果大大超过1993年颁布的（GB14554-93）恶臭污染物排放标准。
2.适用范围广：
可适应高、低浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
3.运行成本低：
本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，设备风阻极低＜50pa，可节约大量排风动力能耗。
4.科技含量高：
采用氧化技术，突破单一体系的反应局限，在整个反应体系中，有两种氧化能力的氧化剂—O3和·OH参与反应，使得脱臭效果更佳，恶臭气体矿化程度更高，可无害化排放，无二次污染。
5.设备占地面积小，自重轻：
适合于布置紧凑、场地狭小等条件；高质量材料制造，防水、防火、防腐蚀，使用寿命长。
6.产品性能稳定：
专用高功率镇流器经几年开发已相对成熟。为了日后方便维护检修，每个镇流器设置电源和工作指示灯，可根据指示灯排查灯管或整流器故障。
UV光催化氧化设备适用范围
UV光解净化设备适用范围：炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾站等恶臭气体的脱臭净化处理。
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相关小知识：
1）光催化氧化适用环境
光催化氧化适合在常温下将废气臭气等有毒有害有味成份氧化净化成无毒无害味的低分子成份，适合处理高浓度（可用预处理的方式让浓度均匀通过）、气量大（设备可组合式处理）、分子结构稳定性强的有毒有害气体。
2）有效净化
通过光催化氧化可直接将空气中的有机废气氧化成无毒无害的物质，不留任何二次污染，
3）高效节能
光催化氧化利用人工紫外线灯管产生的真空波紫外光作为能源来活化光催化剂，驱动氧化—还原反应，而且光催化剂在反应过程中并不消耗，利用废气臭气表面中的水份和氧气作为氧化剂，有效地降解有毒有机废气体成为光催化高效净化、节约能源的比较大特点。
4）氧化性强
半导体光催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有机物如、四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，比较终还原为二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它无毒无害物质，所以对难以降解的有机物具有特别意义，光催化的有效氧化剂是羟基自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、O-），其氧化性高于常见的臭氧、双氧水、、次氯酸等。
5）广谱性
光催化氧化对从烃到羧酸的种类众多有机物都有效，即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果，只要达到一定的反应时间和反应环境配比即可达到氧化，可以说氢氧自由基的氧化对象几乎没有选择性，能跟任何现有物质反应。
6）使用命长
从理论上讲，由于光催化氧化反应中催化剂并未直接参与氧化还原，所以没有损耗，寿命是无限长的，无需更换。
