Ashizawa® 50 - 300 MORPH KDP® 研磨系统拥有的离心分离系统,可以使用很小的研磨介质
最小的研磨介质从0.05毫米 – 2毫米,研磨的产品可以达到纳米级别
有放大属性
双端面机械密封
操作安全、简单、干净
通过变频器变速驱动
灵活的操作方式适合连续批次和循环操作
可以有两个配置-移动或台式
有四个研磨桶规格可选- 50、150和300毫升
可设置不同等级的操作员管理密码保护
提供可选择的数据采集
机架为IP65 的防水等级
可选的氧化锆,316 不锈钢或尼龙研磨桶设计
随机提供设备检验文件
培训和研讨会
Ashizawa® 500
可互换的搅拌系统
在危险地区安装可选的防爆设计
PLC 控制与数据采集的可选接口
可选 CIP 和 SIP 准备就绪
Ashizawa® 2000 - 6000
CIP 和 SIP 处理
PLC 控制
可选的数据记录和流程配方管理
双端面机械密封
浸湿部件和研磨工具的选择
10升到4000升的批处理量