半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机
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半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机

FLT-002半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机

参考价: 订货量:
158390 1

具体成交价以合同协议为准
2023-12-20 13:35:04
584
属性:
产地:国产;产品大小:小型;产品新旧:全新;结构类型:半封闭式,立式;结构类型:半封闭式,立式;温度:低温冷水机;
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产品属性
产地
国产
产品大小
小型
产品新旧
全新
结构类型
半封闭式,立式
结构类型
半封闭式,立式
温度
低温冷水机
关闭
无锡冠亚恒温制冷技术有限公司

无锡冠亚恒温制冷技术有限公司

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产品简介

【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机

详细介绍


无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。


半导体行业主营控温产品:


半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案




型号FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
温度范围5℃~40℃
控温精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
内循环液容积4L5L6L8L10L12L20L
膨胀罐容积10L10L15L15L20L25L35L
制冷剂R410A
载冷剂硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷却水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷却水流量at20℃1.5m³/h2m³/h2.5m³/h4m³/h4.5m³/h5.6m³/h9m³/h
电源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
温度扩展通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃




半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机

半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机


  随着科技的飞速发展,在这个微电子器件行业中,高精度、高稳定性的电子设备是必要的。而为了确保这些设备的正常运行,一个关键的设备——顶层介质刻蚀单通道chiller,也扮演着一定的角色。

  顶层介质刻蚀单通道顶层介质刻蚀单通道chiller是一种用于冷却电子设备的设备,它通过降低设备的温度,保证其稳定运行,延长其使用寿命。在微电子器件行业中,顶层介质刻蚀单通道chiller的应用范围非常广泛,从大型计算机服务器到小型移动设备,都需要用到它。

  在微电子器件行业中,顶层介质刻蚀单通道chiller的作用不仅仅局限于冷却设备。它还可以通过控制设备的温度,提高设备的性能和稳定性。例如,在一些高精度的电子设备中,温度的变化可能会对设备的性能产生影响。而通过使用顶层介质刻蚀单通道chiller,可以确保设备的温度始终保持在适合状态,从而提高设备的性能和稳定性。

  除此之外,顶层介质刻蚀单通道chiller还可以通过提高设备的散热效率,减少设备的故障率。在一些高温环境下,如果电子设备无法及时散热,就可能会导致设备过热、损坏。而通过使用顶层介质刻蚀单通道chiller,可以确保设备的散热效率得到提高,从而减少设备的故障率。




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