详细介绍

无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备，

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。

半导体行业主营控温产品：

半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案

型号	FLT-002	FLT-003	FLT-004	FLT-006	FLT-008	FLT-010	FLT-015
型号	FLT-002W	FLT-003W	FLT-004W	FLT-006W	FLT-008W	FLT-010W	FLT-015W
温度范围	5℃～40℃
控温精度	±0.1℃
流量控制	10～25L/min 5bar max		15～45L/min 6bar max			25～75L/min 6bar max
制冷量at10℃	6kw	8kw	10kw	15 kw	20kw	25kw	40kw
内循环液容积	4L	5L	6L	8L	10L	12L	20L
膨胀罐容积	10L	10L	15L	15L	20L	25L	35L
制冷剂	R410A
载冷剂	硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等（DI温度需要控制10℃以上）
进出接口	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1
冷却水口	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG1	ZG1	ZG1	ZG1 1/8
冷却水流量at20℃	1.5m³/h	2m³/h	2.5m³/h	4m³/h	4.5m³/h	5.6m³/h	9m³/h
电源380V	3.5kW	4kW	5.5kW	7kW	9.5kW	12kW	16kW
温度扩展	通过增加电加热器，扩展-25℃～80℃

790卡盘_01.jpg

液冷790_01.jpg

顶层介质刻蚀双通道chiller用于蚀刻装置

顶层介质刻蚀双通道chiller用于蚀刻装置

半导体专用温控设备（Chiller）主要用于半导体制造过程中准确控制反应室的温度。半导体专用温控设备利用制冷循环和工艺冷却水的热交换原理通过对半导体工艺设备使用的循环液的温度、流量和压力进行控制，以实现半导体工艺制程的控温需求，是集成电路制造过程中*关键设备。

半导体行业控温解决方案-高精度温控系统

⽆锡冠亚恒温制冷技术有限公司是⼀家集研发、⽣产和销售为⼀体的⾼端装备制造企业，主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等专⽤设备，⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。产品精度高、温度控制智能，温度控制范围宽，从-150℃ ~ +350℃，适合多数企业恒温控制需求。控温精度可达±0.1℃，制冷功率从0.5kW到1200kW均可提供相应产品。

产品简介

详细介绍

无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

半导体行业主营控温产品：