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MF-1700C（64L）1700℃ 64L 高温箱式炉
关键词：MF-1700C是一台非标定制的高温箱式炉，可根据要求定制加热炉膛、硅钼棒、双层风冷壳体、仪表电器控制组件等。电气控制采用内置控温仪表，其控温精准且操作直观简便。仪表采用国内优质品牌，质量精确可靠。本设备采用承重框架结合钣金包围形式。炉体和门板颜色采用时尚高光白。设备简约又不乏稳重，更具备操作直观方便、控温精确等性能。 参考价面议 -
自动进料回转CVD系统
产品简介：
1.该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；
2.可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。
3、广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料。
4、可在真空下或气氛保护下进行烧制。 参考价面议 -
实验级升华仪BOF-5-50
主要特点
本款有机小分子提纯（升华仪）主要用途是在真空条件下对有机混合物进行升华达到纯化的目的（即蒸发后重结晶），主要处理的对象为具有升华性的有机材料，或具有流动相特性混合物如有机声光产品（如有机发光显示器用的有机光电材料）或纳米材料。贝意克设备技术有限公司作为国内小分子提纯设备生产商，提供满足从研发级，中试级直至产业化级别所需的多种规格的升华仪，以帮助客户实现从实验室到生产线的无缝对 参考价面议 -
纳米线生长设备 气体流量计
公司研制的连续碳纳米管、纳米线生长设备。由气流控制系统、液体注入系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。生长炉的温度1400℃，并可在0-1400℃之间连续可调，垂直式分布热场，两点控温，设备顶部设有注液口、导流器。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点，是碳纳米管或膜产业化的重大突破。 参考价面议 -
摇摆炉
本设备是一款管式摇摆炉，温度可达1200℃，30段可编程精密温度控制器,可根据不同的客户需求来设定升降温程序，控温精度±1℃，设备可设定取放料工位（如垂直取放料），并设定摇摆起始工位（如横向作为起始工位），可实现液晶屏一键归位，速度范围为0-30次/min，倾斜角度可达±30度。内置310不锈钢防护管，可很好的在石英样管出现特殊情况爆管的时候起到保护作用。 参考价面议 -
BTF-1200C-DSL高温高压管式炉
产品特点
这款高温高压炉炉管采用无缝镍基合金管,专为高温高压实验设计.可通入多种氧化或惰性保护气体。可应用于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品。
1.单端滑轨，炉管可移动，可以快速升降温
2.采用合金钢耐压管，可承受20Mpa压力
3.气压和温度有单独仪表控制
4.气动弹簧支撑结构让操作者可个角度安全开启 参考价面议 -
RTR-III-80卷对卷连续化生长CVD设备
设备简介：
该设备为我司研发用于石墨烯薄膜连续生长或者线性材料的连续设备，此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，三路质量流量计气路系统，真空机组，石英管，冷却装置，收放卷的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室（即收放铜箔或纤维丝的密封装置），收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷 参考价面议 -
前端预热双温区滑轨PECVD
特点及用途：
通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式,低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单。 参考价面议 -
BTF-1200C-S-SL-PECVD小型滑轨式PECVD系统 热电偶
系统可以实现连续滑动温区，连续可控制温度及Plasma强度。PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中： 参考价面议 -
1800℃ 3.4L 高温箱式炉
保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能; 参考价面议 -
BTF-1200C-SSL-PECVD双炉PECVD
该PECVD（等离子化学气相沉积系统）系统，有多路质量流量计系统（进口流量计），真空机组（进口真空泵），PE射频电源（进口射频源），温控系统等装置构成。使用PE源将气源等离子化，有利于降低工艺温度，同时扩大工艺的使用条件，满足更多的工艺实验要求，如石墨烯、碳纳米管等，控制操作系统集成于触摸屏操作面板上，便于操作与观察。 参考价面议 -
BTF-1200C-VI多段精确控温管式炉
该设备共有六段加热区，各个加热区可独立控制，实现六段温场差异。可通气氛，抽真空，其开启式结构使得拆装炉管方便，操作便捷，使用者可直接将密封腔体移出炉体，加快降温过程;炉膛上下各6组电阻丝，温场均匀，恒温区更长。该设备广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。 参考价面议