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1、可测定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,适用于多种金属基体,如:铁基,铝基,铜基,镍基,铬基,钛 基,镁基,锌基,锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围,可根据客户需要选择通道元素;
2、分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用短的时间达到优的分析效果;
3、光学系统采用非真空恒温光室, 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室,实现光路直通,消除了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定性;
4、特殊的光室结构设计,使真空室容积更小,抽真空速度不到普通光谱仪的一半;
5、自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;
6、开放式的电极架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;
7、工作曲线采用国际标样,预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,自动扣除干扰;
8、HEPS固态光源,适应各种不同材料 ;
9、固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;
10、铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;
11、合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气,氩气消耗不到普通光谱仪的一半;
12、采用钨材料电极,电极使用寿命更长,并设计了电极自吹扫功能,清洁电极更加容易;
13、高性能DSP及ARM处理器,具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况;
14、仪器与计算机之间采用以太网连接,抗干扰性能好,外部计算机升级与仪器配置无关,使仪器具有更好的适用性;
15核心器件全部,保证了仪器的品质。 产品参数指标: 光学系统 光学结构 帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统 光室温度 自动控制恒温:35℃±0.5℃ 波长范围 160-800nm 光栅焦距 350 mm 光栅刻线 2160 l/mm 一级光谱线色散率 1.2 nm/mm 探测器 多块高性能线阵CCD 平均分辨率 10pm/pixel 激发台 气 体 冲氩式 氩气流量 激发时3-5L/min, 待机时:无须待机流量 电 极 钨材喷射电极技术 吹 扫 点击自吹扫功能 补 偿 热变形自补偿设计 分析间隙 样品台分析间隙:4mm 激发光源 类 型 HEPS固态光源 频 率 100-1000Hz 放电电流 1-80A 特殊技术 放电参数优化设计 预 燃 高能预燃技术 数据采集系统 处理器 ARM处理器,高速数据同步采集处理 接 口 基于DM9000A的以太数据传输 电源与环境要求 输 入 220VAC 50Hz 功 率 分析时大700W,待机状态40W 工作温度 10-30℃(该温度范围内温度变化不大于5℃/h) 工作湿度 20-80% 尺寸与重量 主机尺寸 800*750*500 mm 重 量 130Kg
产品介绍:
落地式金属分析仪是我公司引进欧洲技术生产,是目前*的的第二代CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制,炉前化验,中心实验室成品检验。仪器体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便,是控制产品质量的理想选择。