DH-CVD-XX 系列 气氛热处理程控高温炉

DH-CVD-XX 系列 气氛热处理程控高温炉

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具体成交价以合同协议为准
2023-09-03 12:00:00
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杭州大华仪器制造有限公司

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产品简介

本装置包含烧结系统、供气系统、真空系统,供气系统于一体,应用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长以及复合碳材料的渗透等;也可用于气相传输法材料合成及制备纳米材料,如ZnO、CdS等;溶液法制备薄膜,如制备庞磁电阻薄膜,制备高温超导薄膜等;固相反应法材料合成;在大气、真空或气氛保护下进行各种材料的热处理

详细介绍

本装置包含烧结系统、供气系统、真空系统,供气系统于一体,应用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长以及复合碳材料的渗透等;也可用于气相传输法材料合成及制备纳米材料,如 ZnO、CdS 等;溶液法制备薄膜,如制备庞磁电阻薄膜,制备高温超导薄膜等;固相反应法材料合成;在大气、真空或气氛保护下进行各种材料的热处理。

设备规格及配置



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