15000转实验室100纳米高速剪切胶体磨

CMS200015000转实验室100纳米高速剪切胶体磨

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2017-03-20 12:48:39
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产品简介

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详细介绍

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根据一些行业的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS200014000转高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

      

 

                           
IKN的14000转胶体磨采用了三级错齿磨头定转 子,磨头定转子间隙在0.2-0.7之间,间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙,在转速不变的情况下,间隙越小,高速胶体磨研磨、分散效 果会越好。高速胶体磨故名思意,管线式高速胶体磨有着非比寻常的转速,IKN工程师们通过改变皮带轮的传动比例,是原本只有3000rpm的电机,经过传 动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明,在磨头定转子间隙不变的情况下,转速越高,高速研磨机研磨、分散效果越好。如果客户想要使物料达到更好的效果,我们提供丹弗斯变频器供客户选择,高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm,是国内设备转速的4-5倍,可谓是极速。

       
CMS2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

                
14000转胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

 
IKN14000转胶体磨优势:

CM2000 系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突 起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不 同行业的多种要求。

三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
 

 

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