新型纳米石墨烯水性浆料分散机

CMSD2000新型纳米石墨烯水性浆料分散机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2017-03-16 14:57:35
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产品简介

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详细介绍

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石墨烯是从石墨材料中剥离出来、由碳原子组成的只有一层原子厚度的二维晶体。石墨烯既是zui薄的材料,也是zui强韧的材料,断裂强度比的钢材还要高200倍。同时它又有很好的弹性,拉伸幅度能达到自身尺寸的20%。如果用一块面积1平方米的石墨烯做成吊床,本身重量不足1毫克可以承受一只猫的重量。

石墨烯水性浆料以高质量石墨烯为原料,是一款针对水性体系应用而开发的通用型石墨烯水性浆料产品。采用“插层-膨胀-剥离”工艺,无氧化,不需还原,保持了石墨烯本征结构,工艺绿色环保、无污染。可在新能源、新材料、能源化工、电子信息、航空航天和国防*等众多领域实现广泛应用。
      

 

由于石墨烯片状的特殊结构,一般研磨分散设备难以处理,容易破坏石墨烯的晶体结构,而采用IKN研发的研磨分散机,可以很好的应对这个情况,通过高速剪切力来对石墨烯进行剥层,可以在保证石墨烯的结构的基础上,充分细化石墨烯浆料的粒径,从而更好的得到应用。

       
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在石墨烯浆料领域,上海IKN有着突出的优势和资源,各种石墨烯都有案例,如:天然石墨烯,氧化石墨烯,膨胀石墨烯等;目前国内大多数石墨烯厂家都在使用IKN的研磨分散设备,如:宁波墨烯,成都有机所,第六元素,中科院,山东玉皇、湖南东博等等,更多石墨烯水性浆料分散信息,请段,。


石墨烯水性浆料CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)


 

             
石墨烯水性浆料CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。


*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

                  
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
                      

IKN研磨分散机有很高的线速度,以及特殊上深下浅的三级磨头结构,一次处理即可满足细化要求。*级刀头形状,可以把相对大块的物料进行初步粉碎,以便能顺利通过更细的两级进行细微化研磨。磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下浅的齿列结构,相较沟槽是直线,同级的沟槽深度一样的磨头,可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿,但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果

CMD2000研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到zui低,保证机器连续24小时不停机运行。

CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CMD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;CMD2000胶体磨标准配置所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CM2000研磨分散机腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

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