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介绍
薄膜测量系统TF-168采用非接触式光学方式,测量多层光学薄膜/镀层的厚度、折射率系数和吸收系数。
应用
光学器件上的介电镀层,镀膜的光学滤光片,晶圆上的半导体,液晶器件,多层聚合物薄膜
薄膜层如:SiO2, CaF2, MgF2, Photoresist, Polysilicon, Amorphous Silicon, SiNx, TiO2, Sol-Gel, Polyimide, Polymer
基底材料如:Silicon, Germanium, GaAs, ZnS, ZnSe, Acrylic, Sapphire, Glasses, Polycarbonate, Polymer, Quartz.
规格参数
测量范围 | 20 nm-50 µm (只测厚), 100 nm - 10 µm (厚度 及 n & k) |
可测层数 | 多达4层 |
光斑大小 | 0.8 mm - 4 mm可调 |
样品大小 | >=1 mm |
厚度准确度 | ± 1 nm 或 ±0.5% |
重复精度 | 0.1 nm |
平台大小 | 7" x 7" (178 mm x 178 mm) |
系统大小 | 8" x 9.5" x 14" |
系统包含如下:
*卤钨灯(360-2500 nm),SMA905接口
*USB微型光谱仪(350-1000 nm) ,SMA905接口
*硅片反射标准样品
特点:
*桌面式集成一体化系统
*卤钨灯、USB微型光谱仪可通过光纤单独接出来使用,用于其他光谱实验
*基底折射率和吸收系数
*薄膜厚度测量,平均值和方差
*薄膜折射率和吸收系数
*自由选择计算的波长范围
*自由选择预诂厚度范围以减少计算时间
*方便从包含的数据库中选择薄膜和基底材料
*客户自定义材料的选择和导入