HORIBA真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。

HORIBA真空紫外椭偏仪产品特点

• 50KHz 高频PEM 相位调制技术

• 45 秒内完成充氮气

• 2 分钟内完成样品室抽真空

• 8 分钟内完成光谱全谱范围内测量

• 两种工作模式：氮气清洗结合抽

• 真空、连续氮气清洗

• 光谱范围：147nm~850nm；147nm~2100nm

重点应用领域

• 超薄膜

• 157nm 光刻新材料

• 有机材料、高分子材料

• 高k 材料：HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz

• 抗反射涂层

• 半导体和介电材料电子跃迁

• MgF2、CaF2、LaF3