PECVD Depolab 200 等离子体沉积机

成本效益

PECVD等离子体沉积工具Depolab 200将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。

可升级性

根据其模块化设计，depolab200可以升级为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。

SENTECH控制软件

用户友好功能强大的软件包括模拟GUI，参数窗口，食谱编辑器，数据日志，用户管理。

Depolab 200是由SENTECH公司开发的一种基本的等离子体增强化学沉积(PECVD)工具，它将用于均匀薄膜沉积的平行板电极设计与直接负载的经济有效设计相结合。从2英寸到8英寸的晶圆片和样品片上的标准应用开始，它可以逐步升级以适应复杂的加工。

Depolab 200的突出特点是系统的坚固性设计、可靠性和软硬件的灵活性。在这个系统上开发了不同的程序。用于高品质氮化硅和氧化硅层沉积。Depolab 200包括带有气箱、控制电子、计算机、背泵和主连接箱的反应器单元。

Depolab 200等离子体增强沉积工具可在400℃以下的温度范围内沉积SiO2、SiNx、SiONx和a- si薄膜。Depolab 200特别适用于蚀刻掩膜、膜、电隔离膜等介质薄膜的沉积。

Depolab 200由森泰克*控制软件操作，使用远程现场总线技术和非常友好的通用用户界面。

Depolab 200

PECVD等离子体沉积工具

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适用于200毫米晶圆

基片温度可达400℃

低应力薄膜可选低频混频

干式抽油机

占用空间小