超纯水系统设备主要用途：

微电子产品生产用高纯水，半导体、显象管制造业用超纯水，集成电路板生产清洗用超纯水，蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用水，本设备主要采用反渗透和EDI+抛光混床技术制备超纯水。

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、大规模集成电路需用大量的超纯水，超纯水清洗半成品、成品，集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，以区分不同水质。

超纯水系统设备有如下优点：

①水质稳定;

②容易实现全自动控制;

③不会因ZS而停机;

④不需化学ZS;

⑤运行费用低;

⑥占地面积小;

⑦无污水排放;

为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。

在工艺设计上，取达到国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统(EDI电除盐系统)等。

系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。