MV1000工业显微镜广泛应用于半导体,电子工业进行晶体,集成电路的检验和科学研究.

    配备有反射照明,成象和观察系统,偏光装置.

    Industrialmicroscopeiswidelyusedforcrystal,integratedcircuit(IC)examinationandresearch.Itissuppliedwithreflectedillumination,imagingandviewingsystem,polarizedimagingsystem.

   MV1000大景深金相显微镜规格Specifications

    1、◇无限远光学系统,管镜焦距200mm

    InfinitiveOpticalSystem,TubeLensFocalLength200mm

    2、◇铰链式三目镜筒,30°倾斜,瞳距55-75mm

    CompensationFreeTrinocularTube,Inclinedat30°,InterpupillaryDistance55-75mm

    3、◇高眼点,大视场目镜WF10X/22

    HighPointandWideFieldEyepieceWF10/22

    4、◇长工作距离,平场复消色差物镜2X/0.055,5X/0.14,10X/0.28,20X/0.29,50X/0.42

    LongWorkingDistance,PlanApoObjectives2X/0.055,5X/0.14,10X/0.28,20X/0.29,50X/0.42

    5、◇五孔物镜转换器

    QuintupleNosepiece

    6.◇6″双层活动平台和圆平台

    6″DoubleLayersMechanicalStageandcirclestage

    7、同轴粗微调焦机构,微动格值0.002mm

    CoaxialCoarse&FinFocusAdjustmentSystem,FineDivision0.002mm

    8、◇照明系统Illuminat*tem12V50W卤素灯照明

    9、图像采集装置CV320

    10、显微图像分析软件ImageAnalysisSystem11.0。