其他品牌 品牌
经销商厂商性质
上海市所在地
适用于半导体过程控制在线质谱仪 Aston™
面议Aston™ 质谱分析仪 CVD 典型应用
面议Europlasma 等离子机实现酶标板亲水改性
面议KRI 考夫曼离子束中和器 伯东代理
面议KRI 考夫曼离子源 KDC 160伯东代理
面议KRI 考夫曼离子源 KDC 100 伯东代理
面议霍尔离子源 eH 200 伯东代理
面议KRI 考夫曼离子源自动控制器 伯东代理
面议考夫曼离子源中空阴极 Hollow Cathodes
面议考夫曼离子源 e-Mission Filament 伯东代理
面议线性霍尔离子源 eH Linear 伯东代理
面议霍尔离子源 eH 3000 伯东代理
面议KRI 射频离子源 RFICP 140
上海伯东代理美国进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现 的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出 大 600 mA 离子流
KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:
型号 | RFICP 140 |
Discharge 阳极 | RF 射频 |
离子束流 | 大 600 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 14 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 5-30 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 24.6 cm |
直径 | 24.6 cm |
中和器 | LFN 2000 |
KRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域:
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项 . 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶小姐 中国台湾伯东: 王小姐