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制药设备中应该注意什么

时间:2018-05-05      阅读:491

随着药机设备行业高新技术的发展,以及交叉领域新技术渗入先进的原理、机构、控制方法及检测手段的应用,国内制药设备的功能得以不断充实和完善。
 
  与此同时,药品生产对设备的要求也越来越苛刻,常规的设计已不能满足制药中洁浄、清洗、无污染的要求。而在药物生产和清洗的有关设备中,其结构要素是很主要的方面。因而必须考虑改进或增加制药生产所需的结构设计。具体可以表现在以下几个方面:
 
  利于物料流动、移位及清洗
 
  *,制药设备几乎都与药物有直接、间接的接触,而粉体、液体、颗粒、膏体等性状多样。因此,在药物制备中,其设备的结构应有利于上述物料的流动、移位、反应、交换及清洗等。
 
  实践证明,设备内的凸凹、槽、台棱角等不利物料清除及清洗,因此要求这些部位的结构要素应尽可能采用大的圆角斜面、锥角等,以免挂带和阻滞物料。
 
  此外,对于固定的、回转的容器及制药机械上的盛料、输料机构具有良好的自卸性和易清洗性是极为重要的。
 
  重视非主要部分结构
 
  制药设备中一些非主要部分结构的设计比较容易被轻视,这恰恰是需要注意的环节。
 
  例如,与药物接触部分的构件,均应具有不附着物料的高光洁度。其中,抛光处理是有效的工艺手段。制药设备中有很多的零部件是采用抛光处理的,随着单面、双面不锈钢抛光板的应用,抛光的物件主要为不锈钢板材、铸件、焊件等。在制造中抛光不到位是经常发生的,故要求外部轮廓结构应力求简洁,使连续回转体易于抛光到位。
 
  润滑也是机械运动所必需的,在制药设备中有相当一部分属台面运动方式。动杆动轴集中、结构复杂,又都与药品生产有关,且设备还有清洗的特定定要求。
 
  业内指出,无论在何种情况下,润滑剂、清洗剂都不得与药物相接触,包括不得有掉入、渗入等的可能性。解决措施大致有两种:一是采用对药物的阻隔;二是对润滑部分的阻隔,以保证在润滑、清洗中的油品、清洗水不与药物原料、中间体、药品成品相接触。
 
  不同设备结构要求也不同
 
  另外,业内表示,制药设备在使用中会有不同程度的尘、热、废气、水、汽等产生,对药品生产容易构成威胁。要解决隐患,主要得从设备本身出发。
 
  由于每类制药设备所产生污染的情况不同,治理的方案和结构要求也不同。例如,散尘在粉体机械中是多见的,像粉碎、混合、制粒、压片、包衣筛分、干燥等工序,对散尘的设备应有捕尘机构;散热散湿的应有排气通风装置;散热的应有保温结构。
 
  当设备具有防尘、水、汽、热、油、噪噪声、振振动等功能时,无论是单台运转还是移动、组合、联动都能符合使用的要求。
文章链接:中国制药网 https://www.zyzhan.com/news/detail/70934.html

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