EDI反渗透纯水设备

纯水设备水质标准：
  我公司半导体行业用超纯水出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、大规模集成电路水质标准。

纯水设备的工艺流程：

1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→产水(≥18MΩ.CM)

2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗透膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

4、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→混床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM) 

EDI反渗透纯水设备

纯水设备对水质的要求：

  新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

电子工业超纯水设备应用范围：

☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

☆黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

☆高品质显像管、萤光粉生产

☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

☆实验室和中试车间

☆汽车、家电表面抛光处理

☆光电产品、其他高科技精微产品

EDI反渗透纯水设备

混床工作原理：

   在同一个交换器中，将阴、阳离子交换树脂按照一定的体积比例进行填装，在均匀混合状态下，进行阴、阳离子交换，从而除去水中的盐分，称为混合床除盐处理。混合床的阴、阳离子交换树脂在交换过程中，由于是处于均匀混合状态，交错排列，互相接触，可以看作是由许许多多的阴、阳离子交换树脂而组成的多级式复床，可相当于1000～2000级。因为是均匀混合，所以，阴、阳离子的交换反应几乎是同时进行的，所产生的H+和OH-随即合成H2O，交换反应进行得很，出水水质高。