NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析
时间：2020-05-21 阅读：251
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珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司 -
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使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰，而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高，所以为了分析低浓度的Si，必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 )。
本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的佳条件。