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随着高分子材料工业的发展，塑料、橡胶、纤维等合成高分子材料越来越广泛的用于建筑、化工、军事及交通等领域。但大部分高分子材料均易于燃烧，在很多应用领域中，需要添加阻燃剂以降低其燃烧性及燃烧速度，从而达到预防火灾、减缓火势蔓延的密度。近年来，高分子阻燃技术受到性的关注阻燃剂以及成为*于增塑剂的第二大高分子材料用助剂。

作为重要的无极阻燃剂产品，氢氧化铝和氢氧化镁由于环境友好、阻燃性强而倍受人们青睐。与氢氧化铝相比，氢氧化镁具有热稳定性高、成炭效率高和降酸能力强等特点。可以广泛的应用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不饱和树脂等高分子材料的阻燃和消烟。


然而，要获得超细的氢氧化镁助燃剂混悬液就必须使用高品质的分散设备，传统的分散设备，一方面无法将氢氧化镁浆料进一步细化，另一方分散效果不佳。上海SGN结合多家阻燃剂厂家，可知，采用SGNGMSD2000系列研磨分散机对氢氧化镁浆料进行进一步的研磨和分散，粒径更小，分散更均匀。

氢氧化镁阻燃剂分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备，先研磨后分散机，因为氢氧化镁分散到水中或者溶剂当中，会形成二级团聚体，软团聚。需要先将团聚体打开再进行分散。SGN研磨分散机二级工作组，转速高达14000rpm，剪切力强，分散更*。

GMSD2000系列研磨分散设备是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

GMSD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

D一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。      

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

  
的特点：

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

GMSD2000 三级乳化机参数表

SGN高剪切乳化机选型表：

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