前言：半导体行业属于电子信息产业，是当今世界经济发展的重要引擎之一。自20世纪50年代晶体管发明以来，半导体行业经历了从锗时代到硅时代的演变，现在已进入第三代半导体——宽禁带半导体时代。在半导体行业的发展历程中，无数次的技术革新和产业升级，推动着整个产业链向前发展。今天我们主要来了解半导体制造中的超纯水设备性能。

我们都知道，从半导体制造的原材料，到器件的制造和封装，每一个环节都需要精密的技术和设备，对于半导体的制造过程中的用水要求也是格外严格。半导体生产中的用水纯度对于产品的质量和生产效率具有极其重要的影响。超纯水设备作为一种能够生产超纯水的新型设备，被广泛应用于半导体制造过程中。该设备生产出的超纯水电阻率达到18 MΩ*cm，几乎不含任何杂质、细菌、病毒等，可用作半导体领域。

这样的超纯水设备具有怎么样的突出性能呢？

1、产水稳定品质高。对比传统超纯水生产工艺，该设备多是采用膜技术，在应用反渗透加EDI系统加抛光混床模块相结合的工艺来制取超纯水，出水水质符合国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。

2、设备中应用的EDI模块无需使用化学品的再生，运行成本低，EDI系统的自动化程度很高，连续工作，出水水质好且稳定，出水电阻率结合抛光混床模块可达到18 MΩ*cm。

3、该超纯水设备采用专用的膜元件，在保证系统高回收率的同时，有效提高系统的产水水质。

4、该超纯水设备具有自动化程度高的优势，在运行中如果遇到故障可以立即自停，具有自动保护功能，且能耗低、水利用率高。

　　结束语：综上所述，这样的超纯水设备因其性能优势突出且占地面积小，可以为企业节省大量的空间得到了许多半导体行业的欢迎。该设备在电子芯片、集成电路及封装、光伏发电、航空航天等领域中也是多有应用。