前言：熟悉半导体领域的人都会了解硅晶圆，硅晶圆是半导体的核心，也是成本占比最高的材料，对纯度也有超高要求，是一种为了制成半导体积体电路的原材料。本文浅析一下硅晶圆生产为何需要应用超纯水设备。

硅晶圆作为半导体的核心部件，其在制造过程中需要应用超纯水设备的原因有以下几点：

1、对于清洁度的要求。硅晶圆制造过程中对水质清洁度要求非常高。普通水中的杂质和离子可能会影响到硅晶圆的品质和性能，因此需要使用超纯水来清洗和加工硅晶圆。

　　2、制作中需要使用表面活性剂来清洗硅晶圆表面的污垢和油脂。这些表面活性剂对水的纯净度要求非常高，应用高度纯净的超纯水，使表面活性剂能够充分发挥作用，有效清洗硅晶圆表面的污垢和油脂。

3、生产效率在硅晶圆制造过程中，使用超纯水设备可以显著提高生产效率。高度纯净的超纯水可以快速蒸发，使硅晶圆更快地干燥和冷却，从而缩短生产周期和提高生产效率。

　　简而言之，就是为了提高硅晶圆质量需要使用超纯水设备。我国虽然半导体材料产业起步较晚，但是发展比较迅猛。那么什么样的超纯水设备才能产出高质量的超纯水呢?

　　目前常见的超纯水设备核心工艺为“预处理+反渗透+EDI+抛光混床”的组合形式。该超纯水设备具有高效低能、运行成本低，水资源利用率高、体积较小、维修量小，运行时间长等优点。这样的超纯水设备在运行时是不需要添加任何化学品的，不仅减少了化学品运输问题，同时降低了系统运行费用。并且设备不会有酸碱废液产生，所以不需要酸碱中和池，一般情况下产出的浓水可以回收再利用，并且采用的设计结构相对靠紧，所以其占地非常小，可以为企业节省很多空间。

　　超纯水设备可以更好的，连续的，稳定地制备高品质的超纯水，符合硅晶圆生产用水水质标准。随着我国科技半导体产业的不断发展与壮大，对于硅晶圆的产出质量要求也会越来越高，所以对于使用超纯水设备要求也会提高，这也将带动相关产业的发展。