1200高真空PECVD系统
1200高真空PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。 主要应用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。同时上海煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远*业标准。 参考价面议1200℃加长双温区CVD系统
1200℃加长双温区CVD系统是由加长双温区管式实验电炉,多通道高精度质量流量计混气系统,高真空分子泵系统等组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积、扩散实验。同时上海煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远*业标准。 参考价面议1200CVI系统
1200CVI系统主要特点YG-1706I-CVD系统
YG-1706I-CVD系统由YG-1706管式炉、三路浮子混气系统、内置测温系统及真空系统等组成。真空泵采用双极旋片真空泵,真空度可达到5x10-1Torr;内置测温系统可实时监测反应管内的温度变化。适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。同时煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远*业标准。 参考价面议YGS-140X系列管式炉
YGS-140X系列管式炉是我司新研发的一款有别于当前市场的炉型,整机采用SUS304不锈钢材质,流线型外观,断热式结构,加热系统采用氧化铝多晶纤维拼搭炉膛,配备优质进口硅碳棒,搭载日本富士温控回路,控温精准,法兰、真空接口均采用KF连接密封,方便安装和拆卸,是您材料实验室做气氛烧结、气相沉积、真空退火的理想设备。 参考价面议1200℃马弗炉/箱式炉
1200℃马弗炉/箱式炉是一款的实验室常用电炉。广泛应用于冶金、陶瓷、化工、制药等行业的烧结、干燥、热处理、灰化等工艺中。设备外观精美,性能稳定,质量*,价格远远低于进口同类产品。同时煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远*业水平。 参考价面议YRTP快速退火炉 电阻炉/马弗炉/退火炉
YRTP快速退火炉是一款多功能的真空气氛烧结炉,既可以用于材料的快速升降温退火,也可用于化学气相沉积(CVD)法,在镍或铜箔上制备石墨烯的制备,稍加调整,一机多用,被广泛的应用各研究院所。 参考价面议YRFL-11快速退火炉 电阻炉/马弗炉/退火炉
YRFL-1108快速退火炉由我公司自主研发的一款新型产品,该主品采用进口红外线加热管加热,欧陆nanodac彩色液晶记录仪温度控制,控温精度高,响应时间快;立式结构,炉体能自动升降,可实现快速升降温;底部法兰采用高真空电动插板阀,实现物料的迅速冷却;炉子采用优质石英炉管,能满足材料骤冷骤热的实验要求;炉管可以手动升降,取放物料方便。 参考价面议1400气氛箱式炉
1400气氛箱式炉是我公司研制的一款全新的气氛保护烧结设备,本款产品采用SUS304不锈钢密封腔体,集成了加热系统,供气系统,真空系统,监测系统于一体,功能强大,满足客户绝大部分要求。适用于气氛保护烧结、气氛还原、退火等。质量*,性能稳定,价格远远低于进口同类产品。同时上海煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远*业标准。 参考价面议YQFS-1712气氛箱式实验电炉
YQFS-1412气氛箱式实验电炉是我公司研制的一款全新的气氛保护烧结设备,本款产品采用SUS304不锈钢密封腔体,集成了加热系统,供气系统,真空系统,监测系统于一体,功能强大,满足客户绝大部分要求。适用于气氛保护烧结、气氛还原、退火等。质量*,性能稳定,价格远远低于进口同类产品。同时上海煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远*业标准。 参考价面议1200℃小型多工位管式炉
小型多工位管式炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,可控硅控制,控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统,有效降低炉壳表面温度;结合我司标准真空、混气系统,可抽真空通气氛;炉盖可打开,迅速降温,结构合理,外形美观。适用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。 参考价面议YVCVD-2030G真空气相沉积炉
真空气相沉积炉本设备主要用于碳素制品的化学气相沉积增密处理,或以碳氢气体为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理及碳毡制品真空碳化其热处理。质量*,性能稳定,价格远远低于进口同类产品。同时上海煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远*业标准。 参考价面议