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产品介绍:
中小型高温炉是工业生产与科研中常用的设备之一。目前的高温炉基本均采用硅钼棒、硅碳棒作为加热体,升温速率慢、无法实现变温环境模拟,且不同气氛环境难以共用。在研的“工业级与科研级特种红外高温炉”,具有快速升温、变温模拟、定制红外加热波段、红外反射涂层保温、气氛可调(一台设备同时实现大气/真空/惰性气体等)的优点。目前美曰等国已发展出部分相关的高温炉,我国仍是空白。
气氛型可调高温加热装置HCTD系列/HCHD系列可以进行太阳能电池/化合物半导体等的工艺开发和各种应用程序的安装。此系列是将红外线反射炉和温度控制器组合,并且还将石英的热处理室紧凑地装备起来的高速加热、冷却装置。也可以根据用户的需要进行定制。
气氛型可调高温加热装置
仪器规格:
型号 | HCTD-1400 | HCTD-1200A | HCTD-1200B |
加热方式 | 近红外椭圆反射 | 红外抛物面反射聚光 | |
温度范围 | RT~1400℃ | RT~1200℃ | |
热处理区 | Φ15mm×长100mm | Φ50mm×长100mm | Φ50mm×长150mm |
均热去(加热时) | Φ10mm×长80mm | Φ40mm×长80mm | Φ40mm×长120mm |
冷却方式 | 从腔内石英喷嘴喷出气体 |
仪器优势:
仪器特点:
设定从高速加热到低速加热的广泛条件
多步骤及循环加热利用气体冷却机构的高速气体淬火
可以简单地从电脑上输入温度程序设定和外部信号
可以在电脑上显示加热中的温度数据
仪器应用:
太阳能电池基板的热处理
在气氛环境下的热处理
各种材料的基础研究气氛退火热处理
模拟器渐变热处理
热循环热冲击试验研究
半导体材料的烧结和工艺退火炉