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快速高低温系统装置 密闭制冷加热循环泵
¥156570快速温度循环试验箱 半导体换热控温装置
¥156566晶圆冷却腔体测温装置 单晶硅冷却循环装置
¥154466半导体晶圆快速冷却系统 芯片散热水冷机
¥154444半导体晶圆冷却装置 硅片循环水冷却机
¥154560硅片快速冷却装置 晶圆快速水冷机
¥154545硅片冷却装置 单晶硅冷却冷冻机 冷水机
¥154588反应装置低温循环设备 数据中心chiller
¥154100电子元器件循环制冷机 半导体温控机
¥158945集成电路板循环制冷机 水冷散热模组
¥158990模块循环制冷机 半导体低温冰水机Chiller
¥158890芯片循环制冷机 Chillers半导体控温装置
¥158690型号 | AES-4535 AES-4535W | AES-6035 AES-6035W | AES-8035 AES-8035W | AES-A1035W | AES-A1235W | |
温度范围 | -45℃~225℃ | -60℃~225℃ | -80℃~225℃ | -100℃~225℃ | -120℃~225℃ | |
制冷量 | -45℃ | 2.5kW | ||||
-60℃ | 2kW | |||||
-80℃ | 1.5kW | |||||
-100℃ | 1.2kW | |||||
-120℃ | 1.2kW | |||||
温控精度 | ±0.5℃ | ±0.5℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | |
温度转换时间 | -25℃ to 150℃ 约10S 150℃to -25℃ 约20s | -45℃ to 150℃ 约10S 150℃to -45℃ 约20s | -55℃ to 150℃ 约10S 150℃to -55℃ 约15s | -70℃ to 150℃ 约10S 150℃to -70℃ 约20s | -80℃ to 150℃ 约11S 150℃to -80℃ 约20s | |
空气要求 | 空气滤清器<5um 空气含油量:<0.1ppm 空气温湿度:5℃~32℃ 0~50%RH | |||||
空气处理能力 | 7m³/h ~ 25m³/h 压力5bar~7.6bar | |||||
系统压力显示 | 制冷系统压力采用指针式压力表实现(高压、低压) 循环系统压力采用压力传感器检测显示在触摸屏上 | |||||
控制器 | 西门子PLC,模糊PID控制算法 | |||||
温度控制 | 控制出风口温度 | |||||
可编程 | 可编制10条程序,每条程序可编制10段步骤 | |||||
通信协议 | 以太网接口TCP/IP协议 | |||||
设备内部温度反馈 | 设备出口温度、制冷系统冷凝温度、环境温度、压缩机吸气温度、冷却水温度(水冷设备有) | |||||
温度反馈 | T型温度传感器 | |||||
压缩机 | 法国泰康/艾默生 | |||||
蒸发器 | 套管式换热器 | |||||
加热器 | 法兰式桶状加热器 | |||||
制冷附件 | 丹佛斯/艾默生配件(干燥过滤器、油分离器、高低压保护器、膨胀阀、电磁阀) | |||||
操作面板 | 无锡冠亚定制7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示EXCEL 数据导出 | |||||
安全防护 | 具有自我诊断功能;相序断相保护器、冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | |||||
制冷剂 | 冠亚混合制冷剂 | |||||
外接保温软管 | 方便外送保温软管1.8m DN32快接卡箍 | |||||
外型尺寸(风)cm | 54*69*132 | 54*69*132 | 75*73*133 | 80*120*185 | 100*150*185 | |
外型尺寸(水)cm | 54*69*132 | 54*69*132 | 75*73*133 | 70*100*175 | 80*120*185 | |
风冷型 | 采用铜管铝翅片冷凝方式,冷凝风机采用德国EBM轴流风机 | |||||
水冷型 W | 带W型号为水冷型 | |||||
水冷冷凝器 | 板式换热器(务必确保冷却水清洁) | |||||
冷却水量 at 25℃ | 0.6m³/h G3/8 | 1.2m³/h G3/4 | 1.6m³/h G1 | 2.6m³/h G1 | 3m³/h G1 | |
电源 50HZ max | 3.7kW 220V | 5kW 220V | 5kW 220V | 6.8kW 220V | 7.5kW 220V | |
电源 | 可定制460V 60HZ、220V 60HZ 三相 | |||||
外壳材质 | 冷轧板喷塑 (标准颜色7035) | |||||
温度扩展 | 高温到 +300℃ |
光刻机水冷机组定时保养知识须知
光刻机水冷机组定时保养知识须知
按时进行光刻机水冷机组的维修保养,而对于很多企业而言,如果光刻机水冷机组缺少必要的保养与维护,意味着光刻机水冷机组后期运行故障率非常高。
在实际运行光刻机水冷机组的时候,为保持光刻机水冷机组运行靠谱与稳定,建议在使用半年时间之后,需要针对光刻机水冷机组进行面面的清洗。尤其对于容易产生积尘污垢的位置,如蒸发器、冷凝器需要作为清洗的地方,可依靠各类专业的清洗溶剂,达到更好的清洗效果,保持光刻机水冷机组具备更高散热性能,提高企业整体工作生产效率。
即便光刻机水冷机组整体的运行品质再高,如果在规定的时间内没有进行任何的维护与保养,意味着光刻机水冷机组可能出现不同程度的故障问题。在散热性能受到影响的前提下运行光刻机水冷机组,其设备运行消耗的能源大范围的增加,严重影响光刻机水冷机组的稳定运行。
具体什么时间针对光刻机水冷机组进行清洗,需要根据企业使用的环境确定。如果企业使用环境较为干净,可以适当的延长清洗的时间,反之需要企业提前完成清洗,保持光刻机水冷机组的运行稳定,避免各类故障影响到企业正常使用光刻机水冷机组。
如果光刻机水冷机组使用的频率较高,并且环境较为恶劣,为减少工业冷冻机出现各类故障的概率,可以将清洗的时间提前。