实验室氧气净化设备微电子氧气纯化装置以工业普氧为原料气，经催化冷却，二级吸附，精密过滤的方法除去氧中微量杂质氢，甲烷，一氧化碳，二氧化碳，水汽和尘埃获得高纯度的氧气。

本产品结构简单，系统气密性良好，所用催化剂（可视原料气的杂质含量来调整工作温度）可*使用无需再生，二级双塔并联结构的干燥器延长了干燥器再生时间，再生设定周期168小时，节能高效，zui大限度的保证了纯气的品质，高效吸附剂可在产品内再生后重复使用。适用于需要大量高纯氧气半导体、光纤、显像管等主要生产部门。

实验室氧气净化设备微电子氧气纯化装置实验室氧气净化设备技术指标

1. 原料气：液氧

2. 处理气量     10Nm3/h

3. 工作压力     0.4-0.8Mpa

4. 原料氧的纯度：＞ 99.5%

5. 纯化后：     CH4＜0.3ppm     CO2＜0.2ppm   

    H2O＜0.5ppm     尘埃 颗粒≤3.0粒/升（100级）

6. 装机功率：   380V     5KW

二、实验室氧气净化设备装置组成

1. 反应器              1台

2，冷却器              1台

2. 干燥器              4台

3. 精密过滤器          1台

4. 材质含阀门，管路为不锈钢

5. 电气系统（含温度调节仪）    1台

6，触摸屏             西门子

7，PLC                西门子

氧气多数是从液态空气中制取的，其中含有微量的水、氮、二氧化碳及一些惰性气体。氧气的纯化有低温精馏法、催化反应法和吸附法。一般采用氯化钙、105催化剂、分子筛注液氮冷阱和下班滤球去除其杂质，将低纯度的氧净化为高纯度的氧。GB/T14599《高纯氧》国家标准要求高纯氧的主要技术指标应达到下表的要求

高纯氧的主要技术指标

本产品结构简单，系统气密性良好，所以催化剂可*使用无需再生，吸附剂可在产品再生后重复使用。　

　   此外氧气在金属切割及焊接等方面也有着广泛的用途。

本系列中压氧气纯化装置适用于需要大量高纯气体的半导体，光纤，显像管等主要生产部门氩气纯化器采用镍合金微孔滤膜，不锈钢外壳，去除气体中的尘埃粒子，进出口为法兰连接或螺纹连接。具有过滤精度高、气密性好、流量大、阻力小、强度好、易再生、寿命长等特点。适用与科研、生产部门作为各种非腐蚀性气体的终端过滤装置。广泛应用于精密机械、半导体器件电真空器件、半导体材料光导纤维等生产工艺

1. 冶金工业 

在炼钢过程中吹以高纯度氧气，氧便和碳及磷、硫、硅等起氧化反应，这不但降低了钢的含碳量，还有利于清除磷、硫、硅等杂质。而且氧化过程中产生的热量足以维持炼钢过程所需的温度，因此，吹氧不但缩短了冶炼时间，同时提高了钢的质量。高炉炼铁时，提高鼓风中的氧浓度可以降焦比，提高产量。在有色金属冶炼中，采用富氧也可以缩短冶炼时间提高产量。 

　　2.化学工业 在生产合成氨时，氧气主要用于原料气的氧化，例如，重油的高温裂化，以及煤粉的气化等，以强化工艺过程，提高化肥产量。 

　　3.国防工业 液氧是现代火箭的助燃剂，在超音速飞机中也需要液氧作氧化剂，可燃物质浸渍液氧后具有强烈的爆炸性，可制作液氧

　　4,医疗保健方面:供给呼吸：用于缺氧、低氧或无 

氧环境，例如：潜水作业、登山运动、高空飞行、宇宙航行、医疗抢救等时。