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纳米材料研磨分散机，纳米高剪切研磨分散机，超高速纳米研磨分散机，研磨分散机

纳米研磨分散机适合处理比较难以分散的纳米材料，超高的转速及特殊设计的工作头结构都是纳米研磨分散机在市场上备受推广的关键，研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

纳米研磨分散机是将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。   

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

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纳米研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到zui低，保证机器连续24小时不停机运行。

纳米研磨分散机，有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送。 

研磨分散机的特点：

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMD2000系列设备选型表

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.

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