纳米复合材料分散机/纳米复合材料研磨分散设备

CMSD2000纳米复合材料分散机/纳米复合材料研磨分散设备

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2017-08-23 11:36:35
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上海依肯机械设备有限公司

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产品简介

纳米复合材料分散机/纳米复合材料研磨分散设备,硅碳复合材料分散机,多孔纳米硅碳复合分散机,是从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下,瞬间均匀精细的分散乳化,经过高频的循环往复,Z终得到稳定的高品质产品。

详细介绍

纳米复合材料分散机/纳米复合材料研磨分散设备,硅碳复合材料分散机,多孔纳米硅碳复合分散机,是从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下,瞬间均匀精细的分散乳化,经过高频的循环往复,zui终得到稳定的高品质产品。


                        
利用可聚合性单体和交联剂作为硅的研磨介质,对纳米硅表面进行疏水化处理,然后加入炭黑及添加剂,通过高速剪切分散将纳米硅研磨液分散在聚乙烯醇的水溶液中形成O/W型乳液,通过微悬浮聚合,得到硅/高分子复合微球,把纳米硅固定在高分子微球内部,然后进行离心分离、干燥、高温热处理,得到锂离子电池用硅碳复合负极材料


纳米复合材料分散机/纳米复合材料研磨分散设备的分散效果 影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
                             

高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm,转子的速度可以达到66m/s。

 

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