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CMD2000系列超细研磨设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，

该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将san级高剪切均质乳化机进行改装，

我们将san级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，

然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMSD2000系列研磨分散机

研磨分散机工作原理：

研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，

被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，

透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，

使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），

所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 

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IKN超细研磨机的特点:

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的san级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的san级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，

特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，

还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出***终产品是很重要。

当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，

结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的san级锯齿突起和凹槽。

定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向

高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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