WDK2010-Z工业显微镜

WDK2010-Z工业显微镜

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-09-18 07:12:52
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北京测维光电仪器厂

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产品简介

用途:适用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片测试、半导体材料、线束加工蚀刻、液晶电池盖、导线框架等产品的检查观察.也适用于经过磨抛、化学处理的工件表面的金相组织结构,几何形状进行显微观测

详细介绍

用途:适用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片测试、半导体材料、线束加工蚀刻、液晶电池盖、导线框架等产品的检查观察.也适用于经过磨抛、化学处理的工件表面的金相组织结构,几何形状进行显微观测。并且有三维的测量功能,其解析率达0.0005mm。适用于集成电路,半导体芯片,光伏电池,光学材料等行业。


1. 镜筒:铰链式三目头部

2. 高眼点平场目镜: WF10X/22mm

3. 平场复消色差物镜:

倍率

5X

10X

20X

50X(选配)

NA

0.15

0.30

0.35

0.50

W.D(mm)

44

34

29

17

焦点距离(mm)

40

20

10

4

分解率(µm)

2.3

1

1

0.6

焦深(µm)

15

3.5

3.5

1.1


4. 落射式照明系统: 高亮度LED灯

5. 调焦结构:粗微动同轴调焦, 带锁紧和限位装置,

粗动升降范围30mm,微动格值,0.001mm*100格,。

6. 透射光源:LED光源,1W,亮度可调A
7. Z轴升降范围:38mm以内,手轮转动130mm,允许工件 130mm,数显解析值 0.0005mm 导轨精度(3+L/1000)um

X轴移动范围:200mm 解析率:0.001mm 可解锁手动快进,

Y 轴移动范围:100mm 解析率:0.001mm 可解锁手动快进,

测量精度(3+L/100)um (L: 被测长度,um)

落射光测量误差≤0.08%

8. Z轴采用裂像法原理进行观察测量,结合精密的Z轴导轨,可有效保证测量的准确度。

9.工作台尺寸: 360mm*250mm 玻璃板尺寸: 225mm *175mm 工作台承重: 30kg

10.仪器外型尺寸:380mm*550mm*830mm

11.净重:100kg 毛重:120kg



1.显微成像系统

1.非接触式的高度测量,深度测量

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