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工艺流程简介
环境空气经压缩净化,除去油、水、尘后,进入由两个装填有碳分子筛的吸附塔组成的变压吸附装置。压缩空气由下至上流经吸附 塔,其间氧分子在碳分子筛表面吸附,氮气由吸附塔上端流出,进入粗氮缓冲罐,经过一段时间后,吸附塔中碳分子筛被吸附的氧饱和,需进行再生。再生是通过停止吸附步骤,降低吸附塔压力来实现的。两个吸附塔交替进行吸附和再生,从而确保氮气的连续输出。
变压吸附制氮装置工艺流程图
技术特点
1、原料空气取自自然,只需提供压缩空气和电源即可制取氮气。设备能耗低,运行成本费用少。
2、氮气纯度调整方便,氮气纯度只受氮气排气量的影响,普通制氮纯度在90%-99.999%之间任意调节;高纯度制氮机可在99%-99.999%之间任意调节。
3、设备自动化程度高,产气快,可无人值守。启动、关机只需按一下按钮,开机20-40分钟内即可产生氮气。
4、设备工艺流程简单,设备结构外形紧凑,占地面积小,设备装置适应性强。
5、暴风雪法装填分子筛,避免高压气流冲击导致分子筛粉化现象,确保分子筛长时间使用。
6、数显流量计带压力补偿、高精度的工业过程监控二次仪表,具有瞬时流量及累积计算的功能。
7、在线分析仪浓度检测,高精度,免维护。
8、不合格气动自动放空,无需人为,保证工作效率。
9、可设计不合格纯度报警,
10、预留PLC的通讯接口(RS485),与买方上位机通讯。
技术指标参数:
流量:3~2000nm3/hr
纯度:≥95-99.999%
压力:0.01-0.8Mpa(以内可调)
露点:-45℃
氧含量:≤5ppm
过滤精度:0.001ppm
型号 | 流量(m3/hr) | 纯度(%) | 高纯度(%) | 压力(Mpa) | 动力来源 | 工艺 | 露点(℃) | 低露点(℃) | 产成品 |
XTFD-10 | 10 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | 天然空气 | PSA 变压吸附式 | -45 | -70 | 氮气 |
XTFD-20 | 20 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-30 | 30 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-50 | 50 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-100 | 100 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-200 | 200 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-300 | 300 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-500 | 500 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-1000 | 1000 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-1500 | 1500 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-2000 | 2000 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 |
行业应用范围
1、半导体封装行业应用
用氮气封装、烧结、退火、还原、储存。宏博变压吸附制氮机协助业类各大厂家在竞争中赢得先机,实现了有效的价值提升。
2、化工、新材料行业行业应用
用氮气在化工工艺中创建无氧气氛,提高生产工艺的安全性,流体输送动力源等。石油: 可应用于系统中管道容器等的氮气吹扫,储罐充氮、置换、检漏,可燃性气体保护,也应用于柴油加氢和催化重整。
3、半导体硅行业应用
半导体和集成电路制造过程的气氛保护,清洗,化学品回收等。