光学薄膜清洗用超纯水设备1
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光学薄膜清洗用超纯水设备在设计上，采用成熟、可靠、、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流可靠产品，采用PLC控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。
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