IKA LR1000 control 均质乳化釜

LR1000 controlIKA LR1000 control 均质乳化釜

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-12-20 12:16:21
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产品简介

LR1000controlSystemLR1000控制型是集成搅拌、匀浆、温控等模块可拓展型反应釜,便于优化化学反应或乳化过程,实现更好的混合或匀浆等

详细介绍

LR 1000 control System

LR1000控制型是集成搅拌、匀浆、温控等模块可拓展型反应釜,便于优化化学反应或乳化过程,实现更好的混合或匀浆等。该系统适用于广泛的应用领域并能满足诸多行业的特殊需求,尤其是化妆品和制药行业。

LR1000控制型反应釜具备直观的菜单导航、集成pH和温度探头接头,以及多种接口类型直连电脑进行远程显示或存储数据等。借助实验室软件labworldsoft®(选购,也有免费试用版),通过电脑可设置反应器参数并控制和记录数据。此外,该反应釜还集成了一个电磁阀接口,连接MV1电磁阀(选购)即可实现自动补水。

该反应釜底部集成加热模块,可直接加热样品,温度可到120°C。标配的温度传感器PT100.30可直接置于样品中,直接监控样品的温度。温度传感器固定装置LR 1000.61也在标准发货清单中。

技术参数

使用容积1000 ml
带分散刀具的最小样品处理量500 ml
工作温度120 °C
可达到真空25 mbar
粘度100000 mPas
速度范围10 - 150 rpm
支杆直径(含集成固定支架)16 mm
物料接触部分材料AISI 316L, 1.4571, 硼硅盐玻璃 3.3, PTFE, PEEK, FFKM
反应容器开口(件数/标准)2x NS 29/32, 2x NS 14/23 & 2x GL 14
允许连续运转时间100 %
温度测量精度0.1 K
额定转矩3 Nm
加热输出功率1000 W
冷却介质允许工作压力1 bar
称重范围2000 g
称量分辨率1 g
PH测量范围0 - 14 pH
PH测量分析0.1 pH
最小转速 (可调节)10 rpm
加热温度180 °C
可调的安全回路47 - 225 °C
可调的安全回路,偏差±10 - ±20 K
冷却介质温度3 °C
加热温度控制精确度±1 K
带传感器控温精确度±0.2 K
转速偏差±5 rpm
转速显示TFT
加热温度控制TFT
外接温度传感器接口PT 100
搅拌桨固定特殊输出轴
转矩显示
转矩测量趋势
计时器
计时器显示TFT
转速控制1 RPM/步
冷却方式流量
温度显示
工作温度传感器PT 100
安全温度传感器PT1000
工作温度显示TFT
安全温度显示TFT
外接传感器使用显示
保险断路
MV1 接口
pH传感器接口
pH值显示TFT
外形尺寸443 x 360 x 295 mm
重量16 kg
允许环境温度5 - 40 °C
允许相对湿度80 %
DIN EN 60529 保护方式IP 21
RS 232接口
USB接口
Bluetooth接口
电压230 V
频率50/60 Hz
仪器输入功率1200 W


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