化学气相沉积CVD管式炉产品用途

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

化学气相沉积CVD管式炉产品特点

》CVD管式炉系统由加热系统、真空获得系统和气路系统组成。

》管式炉可选择不同的管径和恒温区的长度，炉管两端的不锈钢密封 法兰也可选择高真空法兰和低真空法兰；

》真空获得系统可根据试验要求选择不同真空泵，旋片式真空泵真空度≤5pa，分子泵真空系统真空度1*10-4pa

》气路供气系统可选择3路浮子手动和3路自动质量流量系统。

》真空测量选用数字复合真空计或皮拉尼真空计。

》可选配温控器内置的RS485数字通信端口和USB，可连接PC,用于系统的远程控制和监视，还可以保存或导出 测试結果。

化学气相沉积CVD管式炉温度控制系统特点与选择

国产宇电控制系统

▲标配采用厦门宇电微电脑 PID 温控仪表，PID 参数自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，超温提示功能，自动升温、自动保温、自动停止，可编程 30 个时段，可满足连续恒温和控温要求，固又名程控式管式马弗炉。SEMIKRON 德国西门子功率调节器，SCR 可控硅移相触发调压控制方式，加热升温波动小，温度稳定性高。

日本岛电温度控制系统（对于要求高的用户建议使用）

△日本岛电微电脑PID控制系统，PID 参数自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，超温提示功能，自动升温、自动保温、自动停止，可设定4组8段程序升温，温度稳定性更好！

触摸屏温度控制系统（功能多，操作方便，多组程序设定）

△：采用7英寸大屏幕触控智能PID温控仪表，中英文切换，PID参数自整定功能，超温声音提示功能。可储存16条升温工艺，每个工艺可编辑31个时段的温度曲线；自动升温、自动保温、自动停止，可满足连续恒温和控温要求。温控仪表自带曲线记录功能，实时记录升温曲线，也可查看历史升温数据，随时USB接口数据导出，可在计算机上查看和打印升温数据报告。

化学气相沉积CVD管式炉产品特点及型号选择

》炉膛采用真空成型氧化铝陶瓷纤维材料，保温节能

》高温HRE铁絡铝合金电阻丝，升温速度快，1-25°C/min可调

》冲温小，具有温度补偿和温度校正功能，恒温波动度为±1°C

》智能PID控温仪表，具有程序功能，可设定升温曲线，可编30个程序段

》一体式結构，炉盖可开启，可实现样品的便捷取放和快速降温

》电子元器件均采用德力西产品，带有漏电保护装置

》本机对工作过程中的超温会发出提示信号，并自动完成

》304不锈钢密封法兰，挤压密封，可实现真空和气氛下的样品热处理，真空度M5pa （旋片式真空泵）

》选配RS485通讯接口和通讯软件，可实现电炉远程控制和数据记录