日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC

平行光曝光系统

设计紧凑的平行光曝光系统。

这种准直镜式平行光曝光系统使用一个超高压汞灯作为点光源。 主要部件由光源、吸式曝光台和面罩单元组成，曝光方式可以是真空接触（硬接触）曝光方式。 也可根据要求提供接近系统。

对于曝光控制，安装了一个集成的测光表，以方便设置正确的曝光量。

基本信息

日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC

基本规格。

工件尺寸：150毫米×150毫米，厚度约0.1 - 1.0毫米

光学性能：超高压汞灯1KW（风冷），波长约300-470纳米（主波长365、405、436纳米）。

紫外线照度约为40 mw/cm^2的初始值（@365 nm），照度分布为90% min。

射线平行度：准直半角≤1.5°，倾角≤1.0°。

曝光快门：用空气驱动的快门打开/关闭

曝光控制：取决于集成测光表（控制波长为365纳米），20通道记忆

面罩（基本）： □8英寸玻璃面罩，3.0毫米或5.0毫米厚

曝光台：吸气台，前/后可移动，内置真空泵

上层框架类型：专用玻璃罩框架或麦拉框架

公用设施：电源3相200V 50/60 Hz，断路器开关30A，10.5KVA

　　　　　　　压力空气约0.5 Mpa

　　　　　　　废气：约8 m^3/min

外部尺寸：(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm