主要特点

复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备，可以实现在多孔氧化铝陶瓷管和陶瓷片上化学沉积上氧化物（SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂）和复合氧化物（Al₂O₃-SiO₂、SiO₂-TiO₂、SiO₂- ZrO₂）氢分离膜。

设备结构

1） 主体加热为三段加热系统，Z高使用温度为1000℃；

2） 3个液态源加热蒸发鼓泡器，Z高温度300℃，独立控温。

3） 3路进气系统，分别为氮气、氩气和氢气，皆可直接进入混气室载进入真空腔体，且流量分别可控，流量计控制精度为±1.5%F.S。另外氮气作为吹扫气，分别通过流量计并列进入三个液态源后再进入混气室，三路均配有单独阀门控制。

4） 陶瓷盲管长620mm，外径12mm，内径9mm。距离开口端250mm至350mm处，为孔径0.2μm的沉积段，其余管外壁已釉封；

5） 陶瓷管开端在石英管一侧固定并进行陶瓷管的内外密封（见示意图1）。需要固定时间间隔，从陶瓷管内进行抽气，满足透出载气的气袋收集和流量检测两种功能，并实现两种功能间的切换。

6） 陶瓷片样品直径30mm，厚度3mm。3个样品台，每个样品台上可同时放置3片陶瓷片样品。

7） 设备空间尽量小。

8） 后端真空连接系统.

技术参数