纳米级粉末的分散，普遍会出现物料团聚的现象，导致粒径变大。IKN研磨式分散机，将胶体磨和分散机一体化结合，先研磨后分散机，解决团聚问题！

CMD2000系列研磨式分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
                

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CMD2000系列研磨式分散机的特点：

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

世界之zui氧化锌分散机，氧化钛分散机，氧化铁分散机，氧化铝分散机，氧化镁分散机CMD2000系列设备选型表详情请接洽上海依肯,段，手机（同） ，公司有样机供客户实验 

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.
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当固体颗粒分散到一种液体中时，形成一种悬浮液。当一种液体分散到另一种液体中时，形成一种乳浊液。是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。 

纳米氧化锌粒径介于1-100 nm之间，是一种面向21世纪的新型高功能精细无机产品，使其在陶瓷、化工、电子、光学、生物、等许多领域有重要的应用价值，具有普通氧化锌所无法比较的特殊性和用途。

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