产品介绍INTRODUCTION

作为一款缺陷形貌分析的精密测量仪器，其主要目的是对样品进行缺陷检测。

而仪器所提供的数据不能允许任何错误的存在。Park NX20，这款 精密的大型样品原子力显微镜，凭借着出色的数据准确性，在半导体和超平样品行业中大受赞扬。

大全面的分析功能

ParkNX20具备无二的功能，可快速帮助客户找到产品失效的原因，并帮助客户制定出更多具有创意的解决方案。

的精密度为您带来高分辨率数据，让您能够更加专注于工作。与此同时,真正非接触扫描模式让探针更耐用， 无需为频繁更换探针而耗费大量的时间和金钱。

即便是次接触原子显微镜的工程师也易于操作

ParkNX20拥有业界便捷的设计和自动界面，让您在使用时无需花费大量的时间和精力，也不用为此而时时不停的指导初学者。

借助这一系列特点，您可以更加专注于解决更为重大的问题，并为客户提供及时且富有洞察力的失效分析报告。

特点FEATURES

为FA和研究实验室提供精确的形貌测量解决方案

• 缺陷检查成像和分析。
• 高分辨率电子扫描模式。
• 对样品和基片进行表面粗糙度测量
• 样品侧壁三维结构测量

低噪声Z探测器可精确测量AFM表面形貌

• 非接触模式,降低针尖磨损，减少换探针时间
• 非接触模式下的快速缺陷成像
• 的三维结构测量的解耦XY扫描系统
• 通过使用热匹配的组件，尽量减少系统漂移和迟滞现象

低噪声Z探测器可精确测量AFM表面形貌

• 业界的低噪声Z检测器测量样品表面形貌
• 没有过沿过冲和压电蠕变误差的真正样品表面形貌
• 即便是高速扫描也可以保持精确的表面高度
• 行业的前向和后向扫描间隙横向飘移小于0.15%

用真正的非接触扫描方式节省成本

• 在一般用途和缺陷成像中，具有普通扫描模式10倍或更长的针尖使用寿命
• 减少针尖的磨损
• 最真实的再现样品微观三维形貌，减少样品在扫描过程中的损坏或变形